仕事内容

仕事内容変更範囲

会社の指示する業務

職位

ー

募集人数

1人

選考内容

選考プロセス

適性試験：無し 、 面接回数：～2回

代表者名

取締役社長　中田　充

設立

1982年3月

従業員数

92名（2025年9月）

資本金

294,000,000円

本社所在地

〒183-0023 東京都府中市宮町1-40 KDX府中ビル

株式公開

日系・外資

日系

企業URL

事業内容

半導体・液晶・フォトマスク・光学レンズなどの先端電子部品製造分野向けに、精密洗浄装置および洗浄機器を開発・製造・販売する装置メーカーです。同社の事業は大きく「装置事業」と「機器事業」に分かれています。装置事業では、シリコンウェーハ洗浄装置、マスクブランクス洗浄装置、レンズ洗浄装置、半導体部品洗浄装置、エッチング装置などを顧客仕様に合わせて設計・製造しています。一方、機器事業では、メガソニック洗浄ユニットや洗浄シャワーなどの規格製品を展開しています。また、納入後のメンテナンスや補修部品の提供も行っており、装置ライフサイクル全体をサポートしています。主な顧客は半導体ウェーハメーカー、デバイスメーカー、フォトマスクメーカー、液晶メーカー、各種精密部品メーカーなどであり、最先端の製造工程を支える重要な役割を担っています。

事業に関する特色

プレテック最大の特徴は、「ウェットプロセス技術」と呼ばれる精密洗浄技術に特化している点です。半導体の微細化が進む中、ナノレベルの異物除去が求められる製造工程において、同社は高周波・超音波を活用したメガソニック洗浄技術を強みとしています。特にサブミクロンレベルの微粒子を対象としたダメージレス洗浄技術は、高品質化が進む半導体業界で高い評価を受けています。また、標準装置の販売だけでなく、顧客ごとに異なる製造条件や品質要求に応じたカスタマイズ開発を得意としていることも特徴です。さらに、洗浄能力向上とランニングコスト低減の両立を図る独自方式を採用しており、高性能と経済性を兼ね備えたソリューションを提供しています。こうした専門性の高さにより、精密洗浄分野で独自のポジションを築いています。

会社の特色

研究開発型企業としての色彩が強い組織運営を行っています。同社は単なる装置製造会社ではなく、独創的な先端技術の研究開発を継続的に推進することで競争力を維持する方針を掲げています。そのため、営業・設計・開発・製造・サービス部門が密接に連携しながら、顧客課題の解決に取り組む体制を構築しています。また、顧客仕様に応じたオーダーメイド案件が多いため、画一的な大量生産型ではなく、技術者主体でプロジェクトを進める組織特性を持っています。さらに、部品の製造や加工を外部パートナーへ委託し、自社は企画・設計・開発・品質管理などの高付加価値領域に経営資源を集中させるファブレス型に近い運営を採用しています。これにより、柔軟性と収益性を両立した効率的な組織構造を実現しています。

その他の特色

国内外の最先端半導体産業を支える企業としての側面を持っています。同社が提供する製品は一般消費者の目に触れる機会は少ないものの、半導体や液晶、光学分野の品質を左右する重要工程で使用されており、製造インフラを支える存在です。また、近年のAI、データセンター、自動車の電動化などによる半導体需要拡大の恩恵を受けやすい事業領域に位置しています。加えて、同社は「精密洗浄の最先端テクノロジーを提供する」という企業姿勢を掲げ、単なる機械メーカーではなく、顧客の生産歩留まりや品質向上に貢献する技術パートナーとして事業を展開しています。高度な洗浄技術をコアコンピタンスに据え、国内外の先端産業の発展を支える縁の下の力持ち的な企業であることが大きな特徴です。