仕事内容

仕事内容変更範囲

会社の指示する業務

職位

ー

募集人数

2人

選考内容

選考プロセス

適性試験：有り 、 面接回数：2回

代表者名

代表取締役社長　齊藤 匡人

設立

2002年8月

従業員数

1,044名（（2025年3月31日現在））

資本金

6,486,000,000円

本社所在地

〒235-8522 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

株式公開

未公開

日系・外資

日系

企業URL

事業内容

●最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、保守サービス

（来歴）
2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。以来、半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売を手掛けております。

【主力製品】
●電子ビームマスク描画装置
●マスク検査装置
●エピタキシャル成長装置

【電子ビーム描画装置について】物理学、化学電気・電子工学、機械工学、制御光学、情報処理工学、計測工学など、多岐に渡る技術を結集したシステム装置です。電子ビーム描画装置は様々な最先端技術を融合した複合技術の集大成であるといえます。

事業に関する特色

【グローバルニッチトップ企業100選　認定企業】
スマホ、タブレット、自動車のネットワーク化、大容量のクラウドデータ、IoTなどのデジタル情報通信技術の進化と普及が加速しており、これを支えるのが高密度化、細分化が進んだ半導体集積回路（LSI）です。そして超微細な回路の大量生産を可能にするのが半導体集積回路の「ネガフィルム」にあたる「フォトマスク」です。
フォトマスクの製造装置は1990年代までは米国が主流でしたが、同社は電子ビームの直接描画という、これまでにないまったく新しい描画方式、「電子ビームマスク描画装置」の研究開発に成功し、現在、同社は先端フォトマスク描画装置市場世界シェア90％以上（シングルビーム市場）を獲得していおり、経済産業省からグローバルニッチトップ企業100選に認定されています。

【マーケット】
現在半導体市場は85兆円、2030年には120兆円を超えるといわれています。あらゆるものがネットワークにつながるIoTをはじめ、AI、Big DATA、ロボットといったキーワードに加え、カーボンニュートラル時代に向けた様々な製品や技術サービスにおける省エネ・高効率化に半導体は不可欠となっており、未来を支えるテクノロジーとしてますます重要となっています。そんな半導体の製造を原点で支える同社は世界大手半導体メーカーを顧客とし、グローバルニッチトップ企業として注目されています。

※フォトマスク…
電子部品製造のリソグラフィ工程で使用されるパターン原版のことで、半導体製造にかかせない重要な部品。 リソグラフィ工程とは、半導体ウェハー上に感光性有機物質を塗布し、レーザー光を使う露光装置を用いて、フォトマスクに描かれた素子・回路のパターンを焼き付ける工程のこと。

※電子ビームマスク描画装置…衝撃的なスピード
テレビのブラウン管と同様の原理で電子銃から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成。電子ビームマスク描画装置は複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルの位置精度が要求されます。
その位置決めの精度と位置決めの速度を例えると、サッカー場に直径20mmの一円玉を0.2mm以内の誤差で、2秒以内に一つの抜けもないように敷き詰めるような正確さと速さに相当します。

会社の特色

【商用機の販売開始と独自経営に転換】
「電子ビームマスク描画装置」の研究開発プロジェクトに参画していた東芝、東芝機械から同社製の商用機が販売開始し、2002年、東芝機械の半導体装置事業部が分社・独立、現在の「ニューフレアテクノロジー」が創設されました。

・ニューフレアテクノロジーは、電子ビームマスク描画装置（EBM）、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした「半導体製造装置」の研究開発から製造、販売、保守まで手掛ける設立20年目を迎える新進メーカーです。世界のグローバル最大手企業を顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。

・当社のお客様は、世界のグローバル最大手企業です。当社の半導体製造装置がお客様の最先端のモノづくりを支えています。

・スマホやタブレットＰＣ、インテリジェンス化が進む自動車や液晶テレビ。日常生活でもビジネスにおいても、私達の身の回りの製品に半導体は不可欠となっています。また、半導体デバイスの先端市場においては更なる微細化・高機能化が求められています。そのようなニーズの実現にニューフレアテクノロジーの技術が不可欠です。当社主力製品の電子ビームマスク描画装置は、半導体デバイスの生産工程において、コンピュータ上で設計された半導体素子回路をシリコンウエハ上へ転写する際の原版となる「フォトマスク」を描画する装置です。電子ビームによる描画をナノメーター単位で制御しており、最先端半導体の製造に不可欠な装置です。

・電子ビーム描画のナノメーター単位の制御とは、例えるならば、東京タワーから富士山頂にある1.6ｍｍの的を射抜くほどの高精度であり、高度220kｍで旋回している人工衛星からビームを発射し、約2秒間でオーストラリア大陸を横断するほどの圧倒的なスピードです。

■拠点
日本・・・本社工場
海外・・・米国、韓国、ドイツ、台湾、中国

■関係会社
▼米国
NuFlare Technology America, Inc.
・本社（カリフォルニア）
・開発（ニューヨーク）
・サービス拠点（アイダホ、オレゴン他）

▼韓国
NFT Korea, Inc.（器興・華城・平沢）

▼台湾
NuFlare Technology Taiwan, Inc.（新竹・台中・台南）

▼ドイツ
ドイツ支店（ドレスデン）

【平均年齢】43.5歳

★半導体向け電子ビームマスク描画装置で世界シェア9割以上を誇る半導体製造装置メーカー！★
売上高研究開発比率20％以上！積極的な開発投資／利益率20％近くを誇る業績／福利厚生充実／平均勤続年数15年以上

その他の特色

★東芝グループ／電子ビームマスク描画装置で世界シェア9割を誇る半導体製造装置メーカー★
（株主）東芝デバイス&ストレージ株式会社(100%)

【概要】
■2002年に東芝機械株式会社半導体装置事業部の事業を包括継承し、ニューフレアテクノロジーとして事業を開始しました。最先端の半導体製造装置を主な商品としております。
■主力商品の電子ビームマスク描画装置は売上の8割以上を占め、またそのシェアは世界で9割以上を誇ります。30年近くに及ぶ開発の歴史を誇り、他社の追随を許さない技術・ノウハウを蓄積しております。
■エピタキシャル成長装置は、次世代パワー半導体の市場拡大に対応するSiC、GaNエピタキシャル装置の開発・販売をしており、業界最高水準の低欠陥密度と高い均一性を達成しており、市場から高く評価されています。
■新規事業として展開する電子線ウェハ検査装置は、Multi-beam SEMで解像度と高速性を両立した検査装置として市場投入を目指しています。
【社風】
■CS(顧客満足)とES(従業員満足)を最重要の経営課題として掲げ、様々な取組みを行っています。働く従業員が幸せでなければ、企業成長はないという考えのもと、開発環境・待遇など、全てにおいて改善を続けています。

■顧客
世界ロジック半導体メーカー（インテルなど）、世界メモリ半導体メーカー（サムスン電子など）、ファウンドリー（受託生産会社）など9割が外資企業です。