【A-14】半導体製造装置の次世代装置開発担当 ～シェアNo1 電子ビーム描画装置メーカー～
想定年収
720万円 ~ 1,500万円
勤務地
神奈川県
従業員数
1,044名（（2025年3月31日現在））
仕事内容
■■Position ご参考■■
ニューフレアテクノロジー社へご興味お持ち頂けるのであれば、お電話またはTeamsにてポジションについてご説明をさせて頂きます。
【業務内容】
〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応まで幅広く活躍いただきます。
■具体的には
・次世代描画装置のシステム／要素開発
装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を行います。解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示、および特許提案やパテントクリアランス対応もお任せいたします。
他部署と協業しての海外顧客への装置リリースに従事する業務となります。
また、中長期的な次々世代描画装置システムに必要なキーパーツの要素開発も平行して行います。次世代では実装できなくとも次々世代に間に合うよう先行してキーパーツの要素検討・設計、プロトタイプのPOC機の立上げや評価を行う業務となります。
仕事内容変更範囲
会社の指示する業務
職位
ー
募集背景
【採用背景】
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、生産性、精度、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。
【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。
【働き方】
柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワーク可（頻度は都度相談）。
休暇制度も整っており、完全週休2日制（土・日・祝）で年間休日は125日以上。
募集人数
1人
応募条件
技能/経験
下記①に加え、②・③のいずれかの経験をお持ちの方
①半導体領域または産業用製造装置での技術業務経験
・要素開発／設計／評価／解析のいずれかの実務経験
（例：リソグラフィ、エッチング、アッシング、CMP、成膜、装置制御 など）
② プロジェクトリーダー経験
・数十名規模の技術プロジェクトでのリーダー経験
（進捗管理、技術判断、他部門・顧客との調整等）
③ 英語での技術折衝経験
・海外顧客と、技術要件・仕様のすり合わせを行った経験
学歴
大学
職務経験
要
業界経験
要
年齢
年齢制限不問
英語力
初級以上
その他語学力
語学力詳細
ー
勤務条件
雇用形態
無期雇用
試用期間
有り(6ヶ月)
給与
月給制
年収：720万円 ~ 1,500万円
月収：45万円～76万円
月額基本給：34万円～52万円
賞与・インセンティブ
年2回 昨年実績：6.15か月
支給：7月、12月
昇給
有り 年1回 / 4月
勤務地
神奈川県
みなとみらいオフィス：神奈川県横浜市西区みなとみらい4‐6‐2
交通手段1 沿線名：みなとみらい線 駅名：みなとみらい駅 最寄駅から：徒歩2分
勤務地変更範囲
出向
就業時間
08:45～17:30
休憩時間：60分
残業：月20時間～30時間程度
フレックスタイム制
コアタイム 11:00 ～ 14:00
■フレックスタイム制度あり
（フレキシブルタイム） 6：30～11：00、14：00～21：45
（コアタイム） 11：00～14：00
＊現在は新型コロナウイルス感染予防対策のためコアタイムなしのフレックスタイム制度を実施中（1 日45 分間以上の連続した勤務は必要）
残業手当
通常の残業代
通勤手当
交通費：全額支給
その他手当
家族手当
※35歳までの独身借上社宅制度や、単身赴任用社宅、世帯向け借上社宅制度有り
休日・休暇
完全週休二日制, 土, 日, 祝日, 夏季休暇, 年末年始
年間休日：125
年間有給休暇：有給休暇は入社時から付与されます
( 入社7ヶ月目には最低10日以上 )
【休日・休暇詳細】
年間休日125日（2021年度）他全社一斉休暇5日有り
※年次有給休暇の他、赴任休暇、表彰休暇、リフレッシュ休暇、結婚休暇、忌引休暇、出産休暇、看護休暇、介護休暇、裁判員休暇、配偶者出産休暇、生理休暇があります。
・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得
【有給休暇】 初年度1日-19日（入社月による）最大24日
※繰り越し含め最大48日
社会保険
雇用保険, 健康保険, 労災保険, 厚生年金
福利厚生
[福利厚生] 退職金年金制度、企業年金、借りあげ社宅
※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間）
[制度] フレックスタイム制度、在宅勤務制度、研修制度、共済会、一般・年金・財形貯蓄、定年年齢60歳、再雇用制度あり65歳まで
■補足
・「ヒト」への積極投資「NFT-HEC」制度
（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助）
・選択型福利厚生制度として、年間5万円分/１人のポイント付与の中から、スポーツジム等の利用やその他、自己啓発としての通信教育、東芝社製品の購入、旅行サービス等に充てる事が可能な制度があります。
受動喫煙対策
就業場所 全面禁煙
備考
在宅勤務有り ※上記年収には、固定給、諸手当（通勤手当は除く）、賞与を含みます。 ※上記の各種雇用条件や選考回数はモデルであり、実際とは異なる場合があります。必ずオファー時に企業にご確認下さい。 ※適性検査（SPI）は最終面接前に実施いただきますが、合否判定には影響しないため、お気軽にご応募ください。
選考内容
選考プロセス
適性試験：有り 、 面接回数：2回
求人No.：NJB2155053
最終更新日：2026/3/16
企業情報
企業名
株式会社ニューフレアテクノロジー
代表者名
代表取締役社長 高松 潤
設立
2002年8月
従業員数
1,044名（（2025年3月31日現在））
資本金
6,486,000,000円
本社所在地
〒235-8522 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
株式公開
未公開
日系・外資
日系
企業URL
http://www.nuflare.co.jp
事業内容
●最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、保守サービス
（来歴）
2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。以来、半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売を手掛けております。
【主力製品】
●電子ビームマスク描画装置
●マスク検査装置
●エピタキシャル成長装置
【電子ビーム描画装置について】物理学、化学電気・電子工学、機械工学、制御光学、情報処理工学、計測工学など、多岐に渡る技術を結集したシステム装置です。電子ビーム描画装置は様々な最先端技術を融合した複合技術の集大成であるといえます。
事業に関する特色
【グローバルニッチトップ企業100選 認定企業】
スマホ、タブレット、自動車のネットワーク化、大容量のクラウドデータ、IoTなどのデジタル情報通信技術の進化と普及が加速しており、これを支えるのが高密度化、細分化が進んだ半導体集積回路（LSI）です。そして超微細な回路の大量生産を可能にするのが半導体集積回路の「ネガフィルム」にあたる「フォトマスク」です。
フォトマスクの製造装置は1990年代までは米国が主流でしたが、同社は電子ビームの直接描画という、これまでにないまったく新しい描画方式、「電子ビームマスク描画装置」の研究開発に成功し、現在、同社は先端フォトマスク描画装置市場世界シェア90％以上（シングルビーム市場）を獲得していおり、経済産業省からグローバルニッチトップ企業100選に認定されています。
【マーケット】
現在半導体市場は85兆円、2030年には120兆円を超えるといわれています。あらゆるものがネットワークにつながるIoTをはじめ、AI、Big DATA、ロボットといったキーワードに加え、カーボンニュートラル時代に向けた様々な製品や技術サービスにおける省エネ・高効率化に半導体は不可欠となっており、未来を支えるテクノロジーとしてますます重要となっています。そんな半導体の製造を原点で支える同社は世界大手半導体メーカーを顧客とし、グローバルニッチトップ企業として注目されています。
※フォトマスク…
電子部品製造のリソグラフィ工程で使用されるパターン原版のことで、半導体製造にかかせない重要な部品。 リソグラフィ工程とは、半導体ウェハー上に感光性有機物質を塗布し、レーザー光を使う露光装置を用いて、フォトマスクに描かれた素子・回路のパターンを焼き付ける工程のこと。
※電子ビームマスク描画装置…衝撃的なスピード
テレビのブラウン管と同様の原理で電子銃から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成。電子ビームマスク描画装置は複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルの位置精度が要求されます。
その位置決めの精度と位置決めの速度を例えると、サッカー場に直径20mmの一円玉を0.2mm以内の誤差で、2秒以内に一つの抜けもないように敷き詰めるような正確さと速さに相当します。
会社の特色
【商用機の販売開始と独自経営に転換】
「電子ビームマスク描画装置」の研究開発プロジェクトに参画していた東芝、東芝機械から同社製の商用機が販売開始し、2002年、東芝機械の半導体装置事業部が分社・独立、現在の「ニューフレアテクノロジー」が創設されました。
・ニューフレアテクノロジーは、電子ビームマスク描画装置（EBM）、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした「半導体製造装置」の研究開発から製造、販売、保守まで手掛ける設立20年目を迎える新進メーカーです。世界のグローバル最大手企業を顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。
・当社のお客様は、世界のグローバル最大手企業です。当社の半導体製造装置がお客様の最先端のモノづくりを支えています。
・スマホやタブレットＰＣ、インテリジェンス化が進む自動車や液晶テレビ。日常生活でもビジネスにおいても、私達の身の回りの製品に半導体は不可欠となっています。また、半導体デバイスの先端市場においては更なる微細化・高機能化が求められています。そのようなニーズの実現にニューフレアテクノロジーの技術が不可欠です。当社主力製品の電子ビームマスク描画装置は、半導体デバイスの生産工程において、コンピュータ上で設計された半導体素子回路をシリコンウエハ上へ転写する際の原版となる「フォトマスク」を描画する装置です。電子ビームによる描画をナノメーター単位で制御しており、最先端半導体の製造に不可欠な装置です。
・電子ビーム描画のナノメーター単位の制御とは、例えるならば、東京タワーから富士山頂にある1.6ｍｍの的を射抜くほどの高精度であり、高度220kｍで旋回している人工衛星からビームを発射し、約2秒間でオーストラリア大陸を横断するほどの圧倒的なスピードです。
■拠点
日本・・・本社工場
海外・・・米国、韓国、ドイツ、台湾、中国
■関係会社
▼米国
NuFlare Technology America, Inc.
・本社（カリフォルニア）
・開発（ニューヨーク）
・サービス拠点（アイダホ、オレゴン他）
▼韓国
NFT Korea, Inc.（器興・華城・平沢）
▼台湾
NuFlare Technology Taiwan, Inc.（新竹・台中・台南）
▼ドイツ
ドイツ支店（ドレスデン）
【平均年齢】43.5歳
★半導体向け電子ビームマスク描画装置で世界シェア9割以上を誇る半導体製造装置メーカー！★
売上高研究開発比率20％以上！積極的な開発投資／利益率20％近くを誇る業績／福利厚生充実／平均勤続年数15年以上
その他の特色
★東芝グループ／電子ビームマスク描画装置で世界シェア9割を誇る半導体製造装置メーカー★
（株主）東芝デバイス&ストレージ株式会社(100%)
【概要】
■2002年に東芝機械株式会社半導体装置事業部の事業を包括継承し、ニューフレアテクノロジーとして事業を開始しました。最先端の半導体製造装置を主な商品としております。
■主力商品の電子ビームマスク描画装置は売上の8割以上を占め、またそのシェアは世界で9割以上を誇ります。30年近くに及ぶ開発の歴史を誇り、他社の追随を許さない技術・ノウハウを蓄積しております。
■エピタキシャル成長装置は、次世代パワー半導体の市場拡大に対応するSiC、GaNエピタキシャル装置の開発・販売をしており、業界最高水準の低欠陥密度と高い均一性を達成しており、市場から高く評価されています。
■新規事業として展開する電子線ウェハ検査装置は、Multi-beam SEMで解像度と高速性を両立した検査装置として市場投入を目指しています。
【社風】
■CS(顧客満足)とES(従業員満足)を最重要の経営課題として掲げ、様々な取組みを行っています。働く従業員が幸せでなければ、企業成長はないという考えのもと、開発環境・待遇など、全てにおいて改善を続けています。
■顧客
世界ロジック半導体メーカー（インテルなど）、世界メモリ半導体メーカー（サムスン電子など）、ファウンドリー（受託生産会社）など9割が外資企業です。
売上実績
求人No.：NJB2155053
最終更新日：2026/3/16