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アレイプロセスデバイス開発のエキスパート<酸化物関連>

非公開
  • 海外勤務あり
  • 課長以上
  • 外資系企業

想定年収

1,000万円 ~ 非公開

勤務地

東京都,中国

仕事内容

【業務内容】
・酸化物バックプレーンデバイスの設計
・開発に向けた革新的かつ実現可能な提案を策定
・酸化物デバイスの理論解析、開発方針の立案・推進、新技術・新製品・新材料に関する技術課題の解決
・デバイス性能の最適化、プロセス改善、異常解析、信頼性向上に向けた取り組みを主導
・デバイス仕様・性能指標の策定および評価を行い、合理的な管理基準の構築を推進

募集人数

1人

応募条件

技能/経験

<応募要件(Must)>
・酸化物バックプレーンデバイスの開発経験5年以上、TFTやIGZOデバイスなど関連分野での実務経験10年以上を有する方
・TFTの物理モデルや半導体理論に関する専門知識を持ち、酸化物デバイスの設計規格に精通している方

<応募要件(Want)>
・企業文化や経営戦略を理解し、その推進に主体的に取り組める方
・マネジメント経験があり、チームの成長を重視しながら、メンバーの育成・支援に積極的に関われる方

学歴

大学

職務経験

(5年以上)

業界経験

年齢

年齢制限不問  

英語力

不問

その他語学力

語学力詳細

勤務条件

雇用形態

有期雇用(契約期間:36か月)

- 契約更新: 有り 判断基準: 契約期間満了時の業務量及び業務の進捗状況、勤務成績、会社の経営状況を勘案して判断する

- 更新上限: 無し

試用期間

有り(3か月(使用し期間中の勤務条件:変更無))

給与

年俸制

年収:1,000万円 ~ 非公開

月収:83万円~

月額基本給:83万円~

年収については経験・スキルにより優遇(応相談)

賞与・インセンティブ

年1回  

業績による

昇給

有り
業績による(※不定期)

勤務地

東京都,中国

就業時間

09:30~18:30

休憩時間:12:30~13:30

残業:月0時間~20時間程度

※就業時間は拠点によって異なります。

残業手当

通常の残業代

通勤手当

交通費:全額支給

休日・休暇

完全週休二日制, 土, 日, 祝日, GW, 夏季休暇, 年末年始

年間休日:120

年間有給休暇:初年度10日(7か月目から)
【休日・休暇詳細】
■完全週休2日制
■祝日
■GW休暇
■夏季休暇
■年末年始休暇
■有給休暇
■慶弔休暇

※上記の勤務時間は日本での就業となる場合であり、
中国での就業となる場合現地での就業規則に準じます

社会保険

雇用保険, 健康保険, 労災保険, 厚生年金

求人No.:NJB2238570

最終更新日:2026/1/9

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