★技術開発本部 技術開発 検査・修正
テクセンドフォトマスク株式会社
想定年収
400万円 ~ 750万円
勤務地
埼玉県
従業員数
1,959名（2025年3月31日現在）
仕事内容
技術開発と生産技術として、検査・修正エンジニアとして業務にあたっていただきます。専門領域の知識・スキルを身に着けて世界最先端の舞台で仕事ができるエンジニアとして成長できます。
他工程エンジニアや関係会社とのコミュニケーション・連携を通じて他分野の知見も得られる職場です。
フォトマスク技術力世界No.1を自負する弊社のエンジニアとして、各分野のトッププレーヤーを相手に半導体業界の最先端で活躍いただける方をお待ちしています。
【技術開発】
先端フォトマスク技術開発、新規装置導入、顧客認定(顧客との直接的なコミュニケーションを含む)、海外拠点への技術展開や支援(メールやオンライン会議をはじめ、適性に応じて海外出張や駐在も可能)
【生産技術】
先端品から基幹品まで幅広い製品群に対し、多様なアプローチで生産性・キャパシティ向上による利益創出＜組織に関して＞半数以上が20代～30代の活気があるチームです。中途入社者も約20%在籍しており、入社年次に関わらず昇進・活躍できる土壌があります。※教育制度が充実している為、フォトマスクの知識が無くても問題ありません。（初期教育、年間教育、OJT）※技術開発と生産技術の両方を担当します。少しずつ理解度を確認しながら徐々にステップアップしていきます。
仕事内容変更範囲
会社の指示する業務
職位
スタッフクラス
募集背景
旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、凸版印刷から独立し、株式上場(IPO)を経て更なる事業発展を目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。
・半導体向けフォトマスクの開発及び生産技術、設備技術
募集人数
1人
応募条件
技能/経験
【必須】
半導体や液晶などの電子部品・デバイス産業業界でエンジニア経験のある方。
【歓迎】
・半導体製造工程の知識。
・半導体、電子部品等のプロセス工程、検査、保証工程のエンジニア業務の経験。
・社内外の関係者と良好なコミュニケーションを構築できる方、自分の意見を発信し、課題に対して自分事として取り組むことが出来る方。
・変化に対して、臨機応変に対応して前向きに挑戦を続けることが出来る方。
・英語に対する抵抗感が無い方（現状レベルは不問、入社後に伸ばしたい意欲を重視します）
【その他】ご推薦時には、必ず弊社の志望動機と転職理由を併せてご連絡ください。
学歴
大学
職務経験
要
業界経験
要
年齢
年齢制限不問
英語力
その他語学力
語学力詳細
ー
勤務条件
雇用形態
無期雇用
試用期間
有り(3か月)
給与
月給制
年収：400万円 ~ 750万円
月収：24万円～
月額基本給：24万円～
賞与・インセンティブ
年2回
6月・12月
昇給
有り 1月
勤務地
埼玉県
朝霞工場：埼玉県新座市野火止7-21-33（「志木」駅よりバス5分、「新座」駅よりバス10分）
勤務地変更範囲
出向
就業時間
09:00～18:00
休憩時間：60分
残業：月10時間～20時間程度
残業手当
通常の残業代
通勤手当
交通費：全額支給
その他手当
都市手当（勤務地・居住地に応じて都市手当を支給）、家族手当、超過勤務手当、研究員手当、役付手当 他
休日・休暇
完全週休二日制, 祝日
年間有給休暇：有給休暇は入社時から付与されます
( 入社7ヶ月目には最低10日以上 )
【休日・休暇詳細】
年間休日120日以上（毎年会社カレンダーにより決定）、5月1日(メーデー)、創立記念日(6/4)、メモリアル休暇、半日休暇制度、年末年始(6日間）、夏季連続休暇（9日間）、年次有給休暇（初年10日、2年目12日…勤続5年以上は20日を付与 ）
社会保険
雇用保険, 健康保険, 労災保険, 厚生年金
福利厚生
ー
受動喫煙対策
就業場所 原則禁煙（分煙）
備考
ー
選考内容
選考プロセス
適性試験：有り 、 面接回数：～2回
求人No.：NJB2417988
最終更新日：2026/10/14
企業情報
企業名
テクセンドフォトマスク株式会社
代表者名
代表取締役社長 二ノ宮 照雄
設立
2021年12月
従業員数
1,959名（2025年3月31日現在）
資本金
10,400,000,000円
本社所在地
〒105-7133 東京都港区東新橋1-5-2 汐留シティセンター33階
株式公開
プライム
日系・外資
日系
事業内容
フォトマスクの製造・販売
事業に関する特色
LSIなど半導体チップの製造工程で使用されるフォトマスクの研究開発、製造、販売を行っています。
現在の半導体の原型となったメサ型トランジスタ用のマスクを1961年に国内で初めて開発して以来、フォトマスクの開発・製造を続けて来ました。
テクセンドフォトマスクは、TOPPANのフォトマスク事業を継承し、世界最先端の技術力と世界8か国・地域にわたるネットワークで、今後も半導体産業の発展に貢献していきます。
会社の特色
■グローバルな生産体制を構築する唯一の半導体用フォトマスクメーカーです
1961年に本事業を開始して以来、日本、欧米、アジアへと製造拠点の拡大を進め、半導体市場の成長を支えてきました。
現在はグローバルな生産体制を構築している唯一の半導体用フォトマスクメーカーとして外販市場におけるNo.1のマーケットシェアを築いております。
エンジニアは海外出張や海外駐在の可能性があります。
また、日常的に海外と関わって仕事を進めています。
■TOPPANのフォトマスク事業を継承し更なる事業拡大を目指します
テクセンドフォトマスクは、半導体用フォトマスクの製造・販売会社として、凸版印刷株式会社（現TOPPANホールディングス株式会社）からの会社分割により設立され、2022年4月より営業を開始しました。東京に本社を構え、世界各地に広がる顧客サービスネットワークと、主要な地域にある9つの製造拠点を活用し、業界最先端の技術開発力で、外販フォトマスクのリーディングカンパニーとして半導体産業の発展に貢献します。さらに、ナノインプリントモールドを始めとする微細加工製品にも事業領域を拡大していきます。
■半導体用フォトマスク外販市場におけるトップクラスのシェアを誇ります
半導体の地産地消の動きが広まる中、同社はグローバルな生産体制を構築している半導体用フォトマスクメーカーとして、半導体用フォトマスクの外販市場におけるトップクラスのシェアを誇ります。
半導体用フォトマスク市場拡大にあわせ、更なる成長を目指しています。
その他の特色
■「フォトマスク」とは
LSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。
表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。
フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。
回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。
■拠点
国内：汐留本社オフィス、朝霞サイト、滋賀サイト
海外：中国、台湾、韓国、シンガポール、アメリカ、ドイツ、フランス
売上実績
求人No.：NJB2417988
最終更新日：2026/10/14