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【神奈川】次世代EUVフォトレジスト材料開発【IMプロジェクト】

東京応化工業株式会社

  • 上場企業

想定年収

560万円 ~ 810万円

勤務地

神奈川県

従業員数

2,132名((連結/2025年12月31日現在))

仕事内容

◆共通業務(配属初期~半年頃に担当いただく業務)
・社内評価装置を用いた基礎特性評価およびデータ解析
・半導体用レジスト材料の基礎理解
・開発テーマに関する文献調査、技術整理
・社内外関係部署との技術的な情報共有・ディスカッション

◆習熟後に担当いただく業務
化学系バックグラウンドを活かし、レジスト組成設計、原材料設計、有機合成のいずれかを主軸として開発業務に従事していただきます。
・レジスト組成・原材料の設計および性能改善検討
・感度、LWR、欠陥等のリソグラフィ特性改善に向けた開発
・海外パートナー企業(IM社等)との技術協議、共同評価の推進
・顧客向け技術説明、評価サポート
・特許出願に向けた技術整理および権利化対応
・中量産を見据えた材料設計、プロセス検討、サプライヤ連携

仕事内容変更範囲

会社の指示する業務

職位

メンバー

募集背景

本プロジェクトにおける開発・顧客対応体制強化のため。

〈ご参画いただくプロジェクトの背景〉
本プロジェクトはIrresistible Materials社(以下、IM社)との共同開発プロジェクトです。IM社と弊社は、次世代半導体製造に不可欠な EUV向けフォトレジスト(MTR™)の共同開発と事業化を加速するため資本・技術提携を締結しました。
IM社の革新的レジスト技術と弊社の製造体制を組み合わせ、高NA対応、解像度向上、プロセスの効率化およびコスト低減化などの業界課題を解決し、量産化と市場導入を推進していきます。

IMプロジェクトの公開情報はこちらhttps://www.tok.co.jp/application/files/3217/7189/0559/260224_2.pdf

募集人数

2人

応募条件

技能/経験

■必須
・以下経験を有していること
 ◇研究開発業務において、自ら課題を設定し、検討/実行/考察を行った経験 
 ◇実験データの整理/解析および技術資料の作成経験
・化学系の大学または大学院を卒業されていること
 ※専攻が異なる場合でも、化学系企業での開発経験、基礎的な専門知識を有していれば考慮いたします
・現職が正社員であること
・英語による技術資料の読解、メールでのコミュニケーションに抵抗がないこと
・社内外の関係者と円滑に業務を進めるためのコミュニケーション能力を有していること

■歓迎
・半導体材料、フォトレジスト、機能性材料等の研究開発経験
・有機合成、材料合成、または原材料設計に関する実務経験
・材料評価、物性評価、分析(HPLC、NMR 等)に関する経験
・スケールアップ検討、品質設計、製造プロセス検討に携わった経験
・顧客または社内関係部署向けの技術説明、技術サポート経験
・特許出願に向けた技術整理、または知的財産業務への関与経験
・海外拠点、海外企業との共同研究、技術ディスカッション経験(英会話による議論、打ち合わせが可能)

学歴

大学

職務経験

業界経験

不問

年齢

年齢制限不問  

英語力

初級以上

その他語学力

語学力詳細

勤務条件

雇用形態

無期雇用

試用期間

有り(3ヶ月)

給与

月給制

年収:560万円 ~ 810万円

月収:28万円~

月額基本給:28万円~

ご経験に拠ります。

賞与・インセンティブ

年2回  昨年実績:計7.13か月分

年収は、諸手当・残業代除いたもの。
夏期(6月)冬期(12月)

昇給

有り 年1回 / 4月

勤務地

神奈川県

TOK技術革新センター
〒253-0114
神奈川県高座郡寒川町田端1590

交通手段1 沿線名:JR東海道本線、相模線 駅名:茅ヶ崎駅 最寄駅から:バス20分

勤務地変更範囲

会社の定める事業所

※将来的に、当社およびグループ会社の各事業所へ変更となる場合があります。

転勤:当面無し

出向

就業時間

08:30~17:15

休憩時間:60分

残業:月30時間~40時間程度

フレックスタイム制
コアタイム 10:00 ~ 15:00
実働7.75時間

残業手当

通常の残業代

通勤手当

交通費:全額支給

その他手当

住宅手当, 役職手当

家族手当、勤務地手当

休日・休暇

完全週休二日制, 土, 日, 祝日, GW, 夏季休暇, 年末年始

年間休日:123

年間有給休暇:有給休暇は入社時から付与されます
( 入社日より3日間付与。入社半年経過時点15日。最高付与日数20日
(3ヵ月間の出勤率が8割以上の場合は、4ヵ月目初日より3日間、6ヵ月間の出勤率が8割以上の場合は、7ヵ月目初日より9日間が付与。)

※年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有 )
【休日・休暇詳細】
メーデー、創立記念日、慶弔休暇、看護休暇、介護休暇、赴任休暇、災害休暇、永年勤続による休暇、ドナー休暇、社会貢献休業、生理休暇等

社会保険

雇用保険, 健康保険, 労災保険, 厚生年金

福利厚生

各種社会保険完備、健康保険組合、企業年金基金、社員持株会、財形貯蓄、住宅援助金制度、寮・社宅、各種クラブ活動、食費補助、退職金制度、旅行補助金 他(※HPに詳細情報あり)

受動喫煙対策

就業場所 全面禁煙

備考

選考内容

選考プロセス

適性試験:有り 面接回数:2回

求人No.:NJB2381582

最終更新日:2026/7/16

企業情報

企業名

東京応化工業株式会社

代表者名

取締役社長 種市 順昭

設立

1940年10月

従業員数

2,132名((連結/2025年12月31日現在))

資本金

14,640,000,000円

本社所在地

〒211-0012 神奈川県川崎市中原区中丸子150

〒253-0111 神奈川県高座郡寒川町田端1590

株式公開

プライム

日系・外資

日系

事業内容

半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造材料、半導体用・液晶パネル用製造装置などの各種プロセス機器、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売

事業に関する特色

・半導体レジスト等機能材料で世界トップクラス プライム市場上場
・世界トップレベルの半導体メーカーとの安定的な取引
・『フォトリソグラフィ』による微細加工技術をコア・テクノロジーに、常に最先端の領域に挑戦していきます

【当社について】
半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。
私ども東京応化工業はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。
「半導体用フォトレジスト製品」はグローバルニッチトップ企業100選に認定。
海外の売上比率は全体売上の80%近くを占めており、アジアを中心に北米・ヨーロッパのマーケットがメインフィールド。
海外を主戦場とした新規事業をつくる動きや、海外事業に資金と人材を投資する動きも活発化。グローバル人材開発にも積極的です。

【当社の価値】
フォトレジストの性能を高めると、より微細な溝をウエハに刻むことができ、当社は製品開発を通じて、半導体の集積度向上の歴史に貢献してきました。
そして、今後の将来においても更に新規価値を世の中へ発信し続けていくことが使命と思っています。

【グローバルニッチトップ企業100選に認定】
当社の「半導体用フォトレジスト」が、戦略性・市場独占性・国際性などを高く評価され、経済産業省による「グローバルニッチトップ企業(電気・電子部門)」に認定されました。

【パーパス】
”社会の期待に 化学で応える”
◆経営理念:自由闊達、技術のたゆまざる研鑽、製品の高度化、社会への貢献
◆経営ビジョン:豊かな未来、社会の期待に化学で応える“The e-Material Global Company”
◆CSR方針:
■従業員とのエンゲージメントを高め、グループ一丸となって持続的な企業価値向上を目指します。
■技術革新に資する高付加価値製品を提供し続けることにより社会的課題の解決に取り組みます。
■社会とともに発展し、すべてのステークホルダーより高い信頼を寄せられる、魅力ある企業であり続けることを目指します。

会社の特色

85年以上の歴史がある大手化学メーカー。
穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数17.1年です。
自己資本比率70%超と安定経営を実現。
平均年収865万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

その他の特色

[顧客密着型の営業体制、海外に生産工場、営業拠点を展開]
TOKの売上の約8割が海外です。フェイスtoフェイスの密接なコミュニケーションを通してお客様企業の要望に応えるTOKは、市場のグローバル化に対応し、アメリカ、ヨーロッパ、アジアに生産・営業を担う現地法人を設置するなど海外拠点も着実に拡大。海外のお客様企業の要望にも的確、迅速に応えています。 今後は一層グローバルネットワークを強化し、世界のTOKとしてその名を高めていきます。

【国内拠点】
本社
TOK技術革新センター(R&D拠点・フォトレジスト/有機化学薬品の製造)
郡山工場(KrF・ArF用フォトレジスト及び関連高純度化学薬品の製造)
宇都宮工場(各種半導体・ディスプレイ用フォトレジストの製造)
御殿場工場(半導体用フォトレジスト、被膜形成用塗布液(OCD)および各種フォトレジストの製造)
阿蘇工場(高純度化学薬品の製造)
阿蘇工場阿蘇くまもとサイト

【関連会社】
<国内>
ティーオーケーエンジニアリング株式会社
<海外>
米国:TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.
台湾:TOK TAIWAN CO., LTD.(台湾東應化股份有限公司)
韓国:TOK ADVANCED MATERIALS CO., LTD.(TOK尖端材料株式会社)
中国:TOK CHINA CO., LTD.(上海帝奥科電子科技有限公司)
シンガポール:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. Singapore Branch
オランダ:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. Europe Branch
ドイツ:micro resist technology GmbH

売上実績

決算期
売上高
経常利益
2017/12
92,411百万円
9,720百万円
2018/12
105,277百万円
10,734百万円
2019/12
102,821百万円
9,707百万円
2020/12
117,585百万円
16,129百万円
2021/12
140,055百万円
21,664百万円
2022/12
175,434百万円
30,966百万円
2023/12
162,270百万円
24,260百万円
2024/12
200,966百万円
34,554百万円
2025/12
237,029百万円
49,274百万円

求人No.:NJB2381582

最終更新日:2026/7/16

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