光ファイバ通信に用いる半導体レーザ素子（チップ）の高性能化や生産性向上を狙いとする、要素技術および量産プロセス技術の開発を担っていただくポジションです。

【業務内容】
プロセス開発部は横浜・山梨の2拠点で構成され、両拠点で情報共有しながら同じ考え方でプロセス設計を進めています。配属拠点により、主に担当いただく工程が異なります。
・横浜拠点：エピタキシャル成長（エピ）および再成長に必要なプロセスを担当。光デバイス（光の動作原理・エピ）に関する知識・興味を活かせます。
・山梨拠点：エピ以降のウェーハプロセスを担当。半導体のユニットプロセス（エッチング等）の経験を活かせます。

■具体的にお任せする業務
・高性能化に必要なエピタキシャル成長技術、またはウエハプロセス技術の開発業務
・生産性向上のための生産ライン設計およびプロセスインテグレーション業務
・新製品を中心とする生産ライン立ち上げに関わる業務

■仕事の進め方・環境
・横浜・山梨の両拠点で情報共有し、同じ考え方でプロセス設計を行います。
・新しいクリーンルームの立ち上げという、数年がかりのプロジェクトに携わることができます。