※同社の下記事業部内にてポジションサーチ致します。ご希望がございましたら、応募時にお知らせください

■筑波研究所について
つくば開発センターでは、深冷分離・安定同位体分離技術、超低温技術、超電導技術、高感度のガス分析などの分野において、革新的な研究・開発に挑戦しています。
エレクトロニクス分野についても、MOCVD装置をはじめ、新規材料やプロセスの開発など、最先端の研究を行っています。

※本求人では上記の中からご経験に合わせたポジションをご提案させていただきます。

■半導体ガス開発
半導体製造に欠かせない産業ガスの新規開発業務をお任せします。今後の顧客ニーズに合わせた材料ガス開発として、分析技術、特性評価、供給技術の製品化に必要となる要素技術開発を行っていただきます。
開発にあたっては、通常の実験作業に加えて分子化学計算や機械学習などのDXの活用も行います。

■MOCVD
青色LEDの材料である GaN MOCVD装置の開発を行っていただきます。
また応用開発研究だけでなく、産業ガスメーカーとして要となる技術、ガス分析技術の研究開発と各種分析実務をになう重要な拠点でもあります。

■分析・評価ポジション
半導体製造プロセス等で使用される高純度特殊ガス中の微量不純物を検出する超高感度ガス分析技術に強みを持っており、ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）や赤外線分析法を用い、モノシラン中ジシロキサンやアルシン・ホスフィン中の不純物（硫化水素等）を極低濃度で分析する技術を開発していただきます。

※その他にも複数可能性のあるポジションがございます※